美国材料实验学会（ASTM）1983、1990年颁发的电子级水质标准，已不能适应超大规模集成电路迅速发展需要。目前ASTM提出了新的、更为严格的水质指标。Bolindustry膜分离事业部，专业为半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、微电子工业、大规模集成电路行业，提供生产所需纯水、高纯水、超纯水工艺设计及成套设备。                  

● 系统产水符合国家《GB/T 11446.1-2013电子级水》标准；
● 采用先进的全膜法工艺，实现更小占地面积，及高度自动化运行；
● 实现电阻率≥18.3MΩ的超纯水制备；
● 对产水TOC处理：≤5μg/l；
● 系统产水符合国家《GB/T 11446.1-2013电子级水》标准；
● 主配置采用DOW陶氏膜元件、西门子EDI、DOWEX抛光树脂，以及Aquafine UV及TOC装置。