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砷化镓研磨液过滤

工业半导体生产中研磨和抛光工段废液通常集中处理。集中后的废液中含有抛光液含氧化铝、次氯酸钠、砷化镓等多种组份,废液呈悬浊状。通常环保排放对含砷总量排放要求<0.5mg/L,而传统处理方式如絮凝板框等已达不能达到该环保排放要求。南京博滤工业采用纳滤分离技术可实现该工艺段对砷化镓的精细化处理。以下为某国营半导体生产企业现场中试情况,实验结果显示含砷总量远低于排放要求数值,符合排放规定。
预处理要求
物料经过预处理工序后的含砷废液,预处理后的废液中不能 含有铁、焊渣、沙石等金属或非金属固体硬颗粒。无棉絮、破布、编制袋丝等絮状物体。
设备运行过程
原料罐中的废液经供料泵送入至砷化镓精处理过滤设备,该成套设备配有循环泵,以保持恒定的操作压力和流速。废液在压力的作用下,清液透过分离后被收集至清液罐或排放;含砷化镓被截留分离至浓液侧。完成分离后停止,停机待后续工艺。期间为保证砷化镓分离设备稳定运行,设备设置了自动反冲洗程序。
设备排渣、清洗过程
砷化镓过滤设备配置在线自动清洗控制,在生产过程中,使用一段时间后,研磨液、抛光液中的各种组分均有可能在设备内部和表面形成堵塞,这些吸附在内层表面和污染物如不及时去除,将影响半导体研磨液过滤设备性能,表现为处理量逐步衰减。因此必须周期性的对砷化镓浓缩设备进行清洗再生,以恢复系统的液固分离性能。主要通过专业清洗和反吹以及化学清洗恢复再生。我公司在设备交付后,提供专业培训,直至用户掌握操作维护技能,具备现场生产和管理能力。